|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Plasma parameters and SiO2 etching kinetics in C4F8 + Ar + O2 gas mixtureстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 20 января 2021 г.
- Авторы: Efremov Alexander M., Betelin Vladimir B., Kwon Kwang-Ho
- Журнал: Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология
- Том: 63
- Номер: 6
- Год издания: 2020
- Издательство: Иван. химико-технол. ун-т
- Местоположение издательства: Иваново
- Первая страница: 37
- Последняя страница: 43
- DOI: 10.6060/ivkkt.20206306.6163
- Добавил в систему: Стамов Любен Иванович