TSF-MOCVD – a novel technique for chemical vapour deposition of oxide thin films and layered heterostructuresстатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science

Информация о цитировании статьи получена из Scopus
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 27 апреля 2022 г.

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст document.pdf 3,7 МБ 14 сентября 2021 [Roy_Nygaard]