Аннотация:В плазменных устройствах, в которых взаимодействие плазмы со стенкой и миграция материала яв-ляются значимыми, пропускание диагностических окон может уменьшаться из-за загрязнения ма-териалами обращенных к плазме элементов конструкции. Рассматривается очистка плавленогокварца КУ-1, моделирующего диагностическое окно, от пленок алюминия в высокочастотной плаз-ме, генерируемой в газах H2(D2), H2(D2)−0.23Ne и чистом Ne. Алюминий использовался в качествехимического аналога Be − основного материала первой стенки ИТЭР. Морфология обработаннойплазмой поверхности, исследованная с помощью атомно-силовой микроскопии, химический со-став, проанализированный с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, и спектрыпропускания в диапазоне 400−1000 нм показали, что плазменная очистка сопровождается слабымвосстановлением кварца до субоксидов и одновременным уменьшением шероховатости Rq от 1.3 до1.0 нм. После плазменной обработки поверхности кварца обнаружено снижение светопропусканияна 1.5−2% в диапазоне длин волн 400−750 нм. Дальнейшее распыление очищенного кварца с удале-нием слоя толщиной более 300 нм сопровождалось постепенным сглаживанием поверхности и сни-жением Rq до 1 нм, но с сохранением пониженного светопропускания. Все исследуемые газы – изо-топы водорода, неон и смесь D2(H2)–Ne подходят для удаления пленок Al с поверхности кварца привысокочастотной мощности несколько Вт/см2и температурах 20—100°C.