|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Экспериментальное определение механических свойств анодного элемента рентгеновского литографастатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: Дюжев Н.А., Гусев Е.Э., Дедкова А.А., Товарнов Д.А., Махиборода М.А.
- Журнал: Журнал технической физики
- Том: 90
- Номер: 11
- Год издания: 2020
- Издательство: Наука
- Местоположение издательства: СПб.
- Первая страница: 1838
- Последняя страница: 1842
- DOI: 10.21883/JTF.2020.11.49971.107-20
- Аннотация: Изготовлен анодный элемент рентгеновского литографа в виде мембранной структуры PolySi*/Si3N4/SiO2 по групповой технологии. Модернизирована конструкция стенда для определения механических свойств мембран. Критическое давление мембранной структуры диаметром 250 μm изменялось в диапазоне от 0.484 до 0.56 MPa для 15 образцов. Механическая прочность структуры PolySi*/Si3N4/SiO2 составила 3.13 GPa. Новая модель в пакете Comsol показала хорошую корреляцию между экспериментальным критическим давлением и теоретической механической прочностью мембраны. Представлено распределение механических напряжений по мембране посредством моделирования и аналитического расчета. Доказано, что область разрыва структуры локализована на границе мембрана/подложка. Ключевые слова: механическая прочность, мембраны, тонкие пленки, поликристаллический кремний, оксид кремния, нитрид кремния
- Добавил в систему: Дедкова Анна Александровна