|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Gas-phase Parameters and Reactive-ion Etching Regimes for Si and SiO2 in Binary Ar + CF4/C4F8 Mixturesстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
- Авторы: Efremov A.M., Betelin V.B., Mednikov K.A., Kwon K.H.
- Журнал: Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология
- Том: 64
- Номер: 6
- Год издания: 2021
- Издательство: Иван. химико-технол. ун-т
- Местоположение издательства: Иваново
- Первая страница: 25
- Последняя страница: 34
- DOI: 10.6060/IVKKT.20216406.6377
- Добавил в систему: Стамов Любен Иванович