Аннотация:Методами рентгеноструктурного анализа и растровой электронной микроскопии исследованыструктурные изменения танталовых конденсаторных порошков FTW60 и FTW800 после спеканияпри различных температурах. Спекание проводили в соответствии с действующим технологиче-ским процессом, применяемом при производстве оксидно-полупроводниковых конденсаторов.В результате спекания были получены аноды, представляющие собой объемно-пористые тела вформе прямоугольного параллелепипеда с проволочным выводом. На свободной поверхности объ-емно-пористых анодов, полученных спеканием порошка FTW60 при температурах 1800 и 1920°С,обнаружено формирование волнообразного рельефа. После спекании порошка FTW800 при темпе-ратуре 1250°С подобного рельефа обнаружено не было. После анализа структурного состояния иморфологии исходных порошков и полученных в результате спекания анодов предложена феноме-нологическая модель образования такого рельефа, основанная на собирательной рекристаллизациивблизи свободной поверхности в процессе высокотемпературного воздействия.