Аннотация:В связи с имеющей место тенденцией непрерывного уменьшения размеров структур, применяемых в современных технологических изделиях, высокую актуальность приобретает разработка эффективных методов их исследования и контроля. Среди них важное место занимают традиционные оптические методы исследования, как одни из наиболее развитых к настоящему времени и и допускающие реализацию на базе различных оптических микроскопов, обширный парк которых имеется в настоящее время в различных отраслях промышленности. В то же время, применение оптических методов с использованием излучения видимого диапазона и близких к нему участков спектра в экспериментальных исследованиях структур нанометрового масштаба связан с рядом трудностей, обусловленных природой электромагнитного излучения и особенностями его взаимодействия с веществом. Так, размеры структур нанометровых масштабов, встречающихся в современных промышленных изделиях, оказываются сравнимы с длиной волны излучения, используемого в имеющихся оптических установках. При этом в рассеянии светового излучения на этих структурах существенную роль играют дифракционные эффекты. Это затрудняет применение для интерпретации наблюдаемых данных традиционных процедур обработки микроскопических изображений, развитых в оптической микроскопии, и требует применения методик на основе строгого решения задач рассеяния излучения на объекте, в том числе с учетом эффектов, связанных с поляризацией излучения. В настоящей работе представлены результаты численного моделирования наблюдения наномасштабных структур с помощью микроскопа-интерферометра Линника, и обсуждаются возможные подходы к интерпретации полученных данных.
