|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon-organic compounds in the dielectric barrier dischargesстатья
- Авторы: Sonnenfeld A., Kozlov K.V., Behnke J.F.
- Сборник: Proc. 15th Int. Symp. Plasma Chem
- Том: 5
- Год издания: 2001
- Место издания: Orléans, France
- Первая страница: 1829
- Последняя страница: 1834
- Добавил в систему: Козлов Кирилл Вадимович