|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Ion beam etching is a technique for preparation of high-Tc superconductor microtips for field-ion microscopyстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus,
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 25 сентября 2013 г.
- Авторы: Givargizov E., Stepanova A., Volobuev A., Pankrashov A., Yakimov V., Zverkov V., Mashkova E., Molchanov V.
- Журнал: Surface Science
- Том: 231
- Год издания: 1990
- Издательство: Elsevier BV
- Местоположение издательства: Netherlands
- Первая страница: 240
- Последняя страница: 246
- Добавил в систему: Машкова Евгения Сергеевна