Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Plasma processing of low-k dielectrics
статья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Baklanov Mikhail R.
,
de Marneffe Jean-Francois
, Shamiryan Denis,
Urbanowicz Adam M.
,
Shi Hualiang
,
Rakhimova Tatyana V.
,
Huang Huai
,
Ho Paul S.
Журнал:
Journal of Applied Physics
Том:
113
Номер:
4
Год издания:
2013
Издательство:
AIP Publishing
Местоположение издательства:
United States
DOI:
10.1063/1.4765297
Добавил в систему:
Рахимов Александр Турсунович