Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Chlorine-Based Plasma Etch in GaAs Triple-Junction Solar Cells Technology
тезисы доклада
Тезисы
Авторы:
Lagov P.B.
,
Maslovsky V.M.
,
Miakonkikh A.V.
,
Pavlov Yu S.
,
Lebedev A.A.
Сборник:
11th International Conference New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation (NEET 2019)
Тезисы
Год издания:
2019
Место издания:
Lublin University of Technology, Lublin, Poland
Добавил в систему:
Павлов Юрий Сергеевич