|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Chlorine-Based Plasma Etch in GaAs Triple-Junction Solar Cells Technologyтезисы доклада Тезисы
- Авторы: Lagov P.B., Maslovsky V.M., Miakonkikh A.V., Pavlov Yu S., Lebedev A.A.
- Сборник: 11th International Conference New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation (NEET 2019)
- Тезисы
- Год издания: 2019
- Место издания: Lublin University of Technology, Lublin, Poland
- Добавил в систему: Павлов Юрий Сергеевич