Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
SUBTHRESHOLD ENERGY ELECTRON-BEAM ANNEALING OF TIN-IMPLANTED SILICON
статья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
,
Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 марта 2017 г.
Авторы:
Oak A.M.
,
Vavilov V.S.
,
Chukichev M.V.
Журнал:
RADIATION EFFECTS LETTERS
Том:
86
Номер:
1
Год издания:
1983
Первая страница:
1
Последняя страница:
5
Добавил в систему:
Чукичев Михаил Васильевич