|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Optimization of growth parameters of TiO2 thin films using a slow positron beamстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 12 ноября 2013 г.
- Авторы: Butterling M., Anwand W., Cornelius S., Potzger K., Smekhova A., Vinnichenko M., Wagner A.
- Журнал: Journal of Physics: Conference Series
- Том: 443
- Год издания: 2013
- Издательство: IOP Publishing
- Местоположение издательства: [Bristol, UK], England
- Первая страница: 012073
- Последняя страница: 012073
- DOI: 10.1088/1742-6596/443/1/012073
- Аннотация: TiO2 thin films grown on fused silica were investigated using positron Doppler broadening spectroscopy at the slow-positron-beam SPONSOR at the Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf. Effects of changes in different parameters like temperature or oxygen flow during film deposition on positron sensitive parameters have been investigated and first results will be presented.
- Добавил в систему: Смехова Алевтина Геннадьевна
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | Butterling2013.pdf | 806,7 КБ | 20 января 2015 [smeall] |