|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
О зависимости распыления монокристалла меди от кристаллографического направления при энергии бомбардирующих ионов до 50 кэВстатья
- Авторы: Юрасова В.Е., Плешивцев Н.В., Орфанов И.В.
- Сборник: ,Тезисы докладов 9-го Всесоюзного Cовещания по катодной электронике
- Год издания: 1959
- Место издания: Москва
- Первая страница: 83
- Последняя страница: 83
- Добавил в систему: Юрасова Вера Евгеньевна