Ионно-пучковые методики ускорительного комплекса HVEE-500 НИИЯФ МГУстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:Приведено описание введенного в эксплуатацию экспериментального комплекса HVEE-500 НИИЯФ МГУ, позволяющего исследовать поверхности и тонкие пленки с разрешением по глубине вплоть до 1-2 монослоев. В комплексе предусмотрена возможность проведения in situ экспериментов по взаимодействию ионных пучков с покрытиями и исследования их с применением ионно-пучковых методик. Имплантация ионов от 1 до 250 атомной единицы массы проводится в мишени с размерами до 150х150 мм с однородностью дозы по этой площади не хуже 99%.
PACS: 29.27.-a
Ключевые слова: ионная имплантация, резерфордовское обратное рассеяние, спектроскопия рассеяния ионов средних энергий, модификация и анализ поверхности.