|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Dielectric Barrier Discharge Processing of trans-CF3CH=CHF and CF3C(O)CF(CF3)2, Their Mixtures with Air, N2, CO2 and Analysis of Their Decomposition Productsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 апреля 2017 г.
- Авторы: Tatarinov A.V., Bilera I.V., Avtaeva S.V., Shakhatov V.A., Solomakhin P.V., Maladen R., Prévé C., Piccoz D.
- Журнал: Plasma Chemistry and Plasma Processing
- Том: 35
- Номер: 5
- Год издания: 2015
- Издательство: Kluwer Academic/Plenum Publishers
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 845
- Последняя страница: 862
- DOI: 10.1007/s11090-015-9635-8
- Добавил в систему: Шахатов Вячеслав Анатольевич
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | 10.1007_s11090-015-9635-8.pdf | 726,7 КБ | 12 июля 2017 [shakhatov@ips.ac.ru] |