Аннотация:В работе исследованы условия развития разрядов:1. Разряд, скользящий по поверхности диэлектрика вблизи диэлектрической вставки на горизонтальной поверхности плазменного листа; длина 30 мм.2. Вертикальный колонообразный разряд вблизи окна разрядной камеры высотой 24 мм (режим контракции объемного разряда).http://www.fpl.gpi.ru/Zvenigorod/L/Sbornik-2023.pdf