|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Highly c-axis oriented LiNb0.5Ta0.5O3 thin films on Si substrates fabricated by thermal plasma spray CVDстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 4 февраля 2014 г.
- Авторы: Kulinich S.A., Shibata J., Yamamoto H., Shimada Y., Terashima K., Yoshida T.
- Журнал: Applied Surface Science
- Том: 182
- Номер: 1-2
- Год издания: 2001
- Издательство: Elsevier BV
- Местоположение издательства: Netherlands
- Первая страница: 150
- Последняя страница: 158
- DOI: 10.1016/S0169-4332(01)00523-2
- Аннотация: Lithium niobate-tantalate films with the composition LiNb0.5Ta0.5O3 and very high c-axis orientation were grown on (1 0 0) and (1 1 1) Si substrates by using the thermal plasma spray CVD method. It is demonstrated that the substrate temperature is the key factor governing film orientation and crystallinity. The film direction could be varied from (0 0 6) to (0 1 2) by controlling the deposition temperature. Under optimal growth conditions, 97% c-textured films could be grown on both thick and very thin intermediate SiO2 layers. A (0 0 6) rocking-curve full-width at half-maximum value could achieve 3.7, by using the optimal deposition temperature. The growth rate applied was equal to 160-340 nm/min.
- Добавил в систему: Кулинич Сергей Алексеевич
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | full text | 016_ASSc_2001.pdf | 247,1 КБ | 31 июля 2019 [skulinich] |