Создание антиотражающего покрытия для оптического диапазона на основе слоя нанопористого германия, сформированного имплантацией ионами индия

Степанов, А.Л.; Нуждин, В.И.; Валеев, В.Ф.; Коновалов, Д.А.; Рогов, А.М.

Авторы: Степанов А.Л., Нуждин В.И., Валеев В.Ф., Коновалов Д.А., Рогов А.М.
Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
Том: 49
Номер: 8
Год издания: 2023
Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
Местоположение издательства: Москва
Первая страница: 10
Последняя страница: 10
DOI: 10.21883/pjtf.2023.08.55129.19466
Аннотация: Исследована возможность использования слоя нанопористого Ge, сформированного имплантацией ионами 115In+ на подложке монокристаллического c-Ge, в качестве антиотражающего оптического покрытия (In:PGe). Для этого была проведена ионная имплантация пластин c-Ge при энергии E = 30keV, плотности тока в ионном пучке J = 5 μA/cm2 и дозе D = 1.8 · 1016 ion/cm2. Показано, что полученный губчатый слой In:PGe, состоящий из переплетающихся нанонитей Ge, характеризуется низкой отражательной способностью (∼ 5%) в широком оптическом спектральном диапазоне 250−1050 nm.
Добавил в систему: Степанов Андрей Львович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИПМех РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИПМех РАН

Создание антиотражающего покрытия для оптического диапазона на основе слоя нанопористого германия, сформированного имплантацией ионами индиястатья

Прикрепленные файлы