Formation and characterization of ultra-thin Ni silicides on strained and unstrained silicon - статья | ИСТИНА – Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных

Formation and characterization of ultra-thin Ni silicides on strained and unstrained siliconстатья

Авторы: Knoll L., Zhao Q.T., Habicht S., Urban C., Bourdelle K.K., Mantl S.
Сборник: 2010 International Workshop on Junction Technology Extended Abstracts
Год издания: 2010
Место издания: IEEE
DOI: 10.1109/iwjt.2010.5474990
Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович