Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Thermal activation of shallow boron-ion implants
статья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 15 февраля 2024 г.
Авторы:
Fiory A.T.
,
Bourdelle K.K.
Журнал:
Journal of Electronic Materials
Том:
28
Номер:
12
Год издания:
1999
Издательство:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Местоположение издательства:
Piscataway, NJ, United States
Первая страница:
1345
Последняя страница:
1352
DOI:
10.1007/s11664-999-0120-0
Добавил в систему:
Бурдель Константин Константинович