|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
INVESTIGATION OF STRUCTURE AND TRANSPORT PROPERTIES OF GRAPHENE GROWN BY LOW-PRESSURE NO FLOW CVD ON POLYCRYSTALLINE Ni FILMSстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.
- Авторы: Kononenko O.V., Matveev V.N., Field D.P., Matveev D.V., Bozhko S.I., Roshchupkin D.V., Vdovin E.E., Baranov A.N.
- Журнал: Наносистемы: физика, химия, математика
- Том: 5
- Номер: 1
- Год издания: 2014
- Издательство: Университет ИТМО
- Местоположение издательства: Санкт-Петербург
- Первая страница: 117
- Последняя страница: 122
- Аннотация: Graphene films were synthesized by the low-pressure no flow CVD on polycrystalline nickel catalyst films grown by the self-ion assisted deposition technique at different biases. Graphene films were transferred to a SiO2/Si substrate using PMMA. The graphene grown on Ni films with bimodal grain size distribution and weaker (111) texture had higher thickness uniformity and a lower number of graphene layers. The graphene grown on Ni films with a monomodal grain size distribution and stronger (111) texture had lower thickness uniformity and a higher number of graphene layers. The transport properties of the graphene films were investigated with the aid of Hall measurements.
- Добавил в систему: Баранов Андрей Николаевич
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | INVESTIGATION_OF_STRUCTURE_AND_TRANSPORT_NPCM51_P117-122.pdf | 581,3 КБ | 21 марта 2014 [anb@inorg.chem.msu.ru] |