|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Рентгеновская литография и микроскопия при наклонном расположении масок и объектовтезисы доклада
- Авторы: Артюков И.А., Бусаров А.С., Виноградов А.В., Попов Н.Л.
- Сборник: VI МЕЖДУНАРОДНАЯ КОНФЕРЕНЦИЯ ПО ФОТОНИКЕ И ИНФОРМАЦИОННОЙ ОПТИКЕ. СБОРНИК НАУЧНЫХ ТРУДОВ
- Тезисы
- Год издания: 2017
- Издательство: НИЯУ МИФИ
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 231
- Последняя страница: 232
- Добавил в систему: Артюков Игорь Анатольевич