|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Влияние гомобуферного слоя на морфологию, микроструктуру и твердость пленок Al/Si(111)статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКДата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 июля 2024 г.
- Авторы: Ломов А.А., Захаров Д.М., Тарасов М.А., Чекушкин А.М., Татаринцев А.А., Киселёв Д.А., Ильина Т.C., Селезнев А.Е.
- Журнал: Журнал технической физики
- Том: 93
- Номер: 7
- Год издания: 2023
- Издательство: Наука
- Местоположение издательства: СПб.
- Первая страница: 897
- Последняя страница: 906
- DOI: 10.21883/jtf.2023.07.55743.83-23
- Аннотация: Представлены результаты комплементарных исследований пленок Al, выращенных методом магнетронно- го распыления при комнатной температуре. Пленки получены на стандартных подложках кремния Si(111) без и с предварительно выращенным на их поверхности при 400◦C алюминиевым (гомобуферного) слоем 20 nm. Взаимозависимость морфологии, микроструктуры и твердости пленок Al от состояния поверхности подложек изучена методами HRXRR, XRD, SEM, EDS, AFM, Nano Indenter (ASTM). Показано, что формирование на поверхности подложек гомобуферных слоев дает возможность управлять структурными и механическими свойствами тонких пленок алюминия.
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич