Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
ON THE COMPARISON OF REACTIVE-ION ETCHING MECHANISMS FOR SiO2 IN FLUORINE- AND CHLORINE-CONTAINING PLASMAS
статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Efremov A.M., Smirnov S.A.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
Журнал:
Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология
Том:
66
Номер:
8
Год издания:
2023
Издательство:
Иван. химико-технол. ун-т
Местоположение издательства:
Иваново
Первая страница:
54
Последняя страница:
62
DOI:
10.6060/ivkkt.20236608.6746
Добавил в систему:
Стамов Любен Иванович