|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
ON THE COMPARISON OF REACTIVE-ION ETCHING MECHANISMS FOR SiO2 IN FLUORINE- AND CHLORINE-CONTAINING PLASMASстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
- Авторы: Efremov A.M., Smirnov S.A., Betelin V.B., Kwon K.H.
- Журнал: Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология
- Том: 66
- Номер: 8
- Год издания: 2023
- Издательство: Иван. химико-технол. ун-т
- Местоположение издательства: Иваново
- Первая страница: 54
- Последняя страница: 62
- DOI: 10.6060/ivkkt.20236608.6746
- Добавил в систему: Стамов Любен Иванович