АДСОРБЦИЯ МОЛЕКУЛ ФТОРФУЛЛЕРЕНОВ НА ПОВЕРХНОСТЯХ МЕТАЛЛОВ И ПОЛУПРОВОДНИКОВ (Обзор)статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 10 июля 2024 г.
Аннотация:Проведены измерения методами сканирующей туннельной микроскопии/ спектроскопии(СТМ/СТС), рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС) и выполнены ab initio вычисления плотности электронных состояний для молекул фторфуллеренов на поверхности полупроводников и металлов. Рассмотрено поведение молекул фторфуллеренов с разным стехиометрическим составом. Установлено, что сильно полярная молекула C60F18 предпочитает быть ориентированной атомами фтора по направлению к поверхности полупроводников. В случае металлической поверхности возможно отклонение дипольного момента от направления нормали к поверхности, вызванное балансом между межмолекулярным взаимодействием и взаимодействием между молекулой и поверхностью. Молекулы фторфуллеренов имеют тенденцию к потере ими атомов фтора в течение времени, что позволяет использовать их в качестве источника фтора в процессах фторирования поверхности металлов и осуществления локальной химической реакции на поверхности полупроводников.