Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
MOCVD Application for Thin Film Deposition of Nonvolatile Lanthanide
статья
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 10 июля 2024 г.
Авторы:
Kotova O.,
Eliseeva S.
,
Muydinov R.
,
Kuzmina N.
,
Kaul A.
Журнал:
Electrochemical Society Proceedings. PV
Том:
9
Год издания:
2005
Первая страница:
306
Последняя страница:
311
Добавил в систему:
Муйдинов Руслан Юрьевич