Short-Term Oxidation of HfB2-SiC Based UHTC in Supersonic Flow of Carbon Dioxide PlasmaстатьяИсследовательская статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 25 октября 2024 г.
Аннотация:Изучено кратковременное (5 мин) воздействие сверхзвукового потока плазмы углекислого газа насверхвысокотемпературную керамику состава HfB2-30об.%SiC. Показано, что приустановке на поверхность при температуре 1615–1655 ◦С происходит начало образованияокисленного слоя. Исследования методами Рамановской спектроскопии и сканирующей электронной микроскопии показали, что под поверхностным оксидным слоем HfO2-SiO2невозможно образование пористой обедненной SiC области. Проведено численное моделирование на основе уравнений Навье–Стокса и экспериментальныезондовые измерения условий испытаний. Отмечена целесообразность продолжения систематическихисследований поведения сверхвысокотемпературной керамики ZrB2/HfB2-SiC, в том числе легированнойразличными компонентами, под воздействием высокоэнтальпийных газовых потоков.