|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Mechanism of Improving Etching Selectivity for E-Beam Resist AR-N 7520 in the Formation of Photonic Silicon Structuresстатья
- Авторы: Fetisenkova Ksenia, Melnikov Alexander, Kuzmenko Vitaly, Miakonkikh Andrey, Rogozhin Alexander, Tatarintsev Andrey, Glaz Oleg, Kiselevsky Vsevolod
- Журнал: Processes
- Том: 12
- Номер: 9
- Год издания: 2024
- Издательство: MDPI
- Местоположение издательства: Basel, Switzerland
- Первая страница: 1
- Последняя страница: 12
- Номер статьи: 1941
- DOI: 10.3390/pr12091941
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич