Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Effect of etching on exchange bias in CoFe/IrMn bilayers studied by soft X-ray XMCD and resonant magnetic reflectometry
статья
Авторы:
O'Donnell D.
,
Smekhova A.
,
Wende H.
,
Fan R.
,
Steadman P.
,
Du Y.
,
Hassan S.
,
Dobrynin A.
Сборник:
2017 IEEE International Magnetics Conference (INTERMAG)
Год издания:
2017
Место издания:
IEEE
DOI:
10.1109/intmag.2017.8007643
Добавил в систему:
Смехова Алевтина Геннадьевна
Прикрепленные файлы
№
Имя
Описание
Имя файла
Размер
Добавлен