|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Effect of etching on exchange bias in CoFe/IrMn bilayers studied by soft X-ray XMCD and resonant magnetic reflectometryстатья
- Авторы: O'Donnell D., Smekhova A., Wende H., Fan R., Steadman P., Du Y., Hassan S., Dobrynin A.
- Сборник: 2017 IEEE International Magnetics Conference (INTERMAG)
- Год издания: 2017
- Место издания: IEEE
- DOI: 10.1109/intmag.2017.8007643
- Добавил в систему: Смехова Алевтина Геннадьевна
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|