|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Формирование пленок вольфрама и его оксидов в высокочастотном емкостном разряде в смеси D2–O2статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 октября 2018 г.
- Авторы: Городецкий А.Е., Залавутдинов Р.Х., Буховец В.Л., Маркин А.В., Захаров А.П., Золотаревский В.И., Войтицкий В.Л., Рыбкина Т.В., Казанский Л.П., Архипушкин И.А., Мухин Е.Е., Раздобарин А.Г.
- Журнал: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
- Номер: 12
- Год издания: 2017
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 91
- Последняя страница: 102
- Переводные версии: Formation of Films of Tungsten and its Oxides in a High-Frequency Capacitive Discharge in a D2-O2 Mixture
- DOI: 10.7868/S0207352817120125
- Добавил в систему: Казанский Леонид Петрович