|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Comprehensive simulation of electron-beam lithography processes using PROLITH/3D and TEMPTATION software toolsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 сентября 2018 г.
- Авторы: Sergey Babin, Kuzmin Igor Yu, Mack Chris A.
- Журнал: Microelectronic Engineering
- Том: 57
- Год издания: 2001
- Издательство: Elsevier BV
- Местоположение издательства: Netherlands
- Первая страница: 343
- Последняя страница: 348
- Добавил в систему: Кузьмин Игорь Юрьевич