|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Low Temperature Plasmas - Fundamentals, Technologies and Techniques. Volume 1книга
- Авторы: Rutscher A., Lofhagen D., Sigeneger F., Winkler R., Becker K., Lin C., Hippler R., Kersten H., Keudell A., Melzer A., Goree J., Pfau S., Tichy M., Ropke J., Davies P., Hempel F., Lavrov B., Schmidt M., Foest R., Basner R., Wagner H-E, Kozlov K.V., Brandenburg R., Fukarek W., Wulff H., Steffen H., Conrads H.
- Год издания: 2008
- Место издания: Wiley-VCH Berlin
- Объём: 409 страниц
- ISBN: 978-3-527-40673-9
- Добавил в систему: Козлов Кирилл Вадимович