|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Деятельность
-
Статьи в журналах
-
- 2008 Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
- Shalaev R.V., Varyukhin V.N., Prudnikov A.M., Linnik A.I., Zhikharev I.V., Belousov N.N., Raspornya D.V., Ulyanov A.N.
- в журнале Functional Materials, том 15, № 4, с. 580-584
-