Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
abramov
Абрамов Александр Михайлович abramov
IstinaResearcherID (IRID): 94856312
–

Статьи в журналах

    • 2021 Multiferroic h-LuFeO3 Thin Films on (111) and (100) Surfaces of YSZ Substrates: An Experimental and Theoretical Study
    • Markelova Maria, Nygaard Roy, Tsymbarenko Dmitry, Shurkina Alyona, Abramov Alexander, Amelichev Vadim, Makarevich Artyom, Vasiliev Alexander, Kaul Andrey
    • в журнале ACS Applied Electronic Materials, издательство American Chemical Society (United States), том 3, с. 1015-1022 DOI

ИПМех РАН
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь