|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
О природе высокой фоточувствительности слоистых пленок аморфного гидрированного кремниятезисы доклада
- Авторы: Курова И.А., Ормонт Н.Н.
- Сборник: Тезисы докадов VII международной конференции "Кремний-2010"
- Тезисы
- Год издания: 2010
- Место издания: Издательство Нижегородского университета Нижний Новгород
- Первая страница: 88
- Последняя страница: 88
- Аннотация: Установлено, что слоистые пленки a-Si:H, выращенные методом циклического осаждения с послойным отжигом в водородной плазме, имеют высокую фоточувствительность, которая превышает в области комнатных температур более, чем на порядок, фоточувствительность стандартных нелегированных пленок a-Si:H, выращенных осаждением в плазме ВЧ тлеющего разряда. Большая величина фоточувствительности слоистых пленок определяется их малой темновой проводимостью и высокой фотопроводимостью в области комнатных температур. Показано, что это может быть обусловлено наличием «очувствляющих» акцепторных уровней с малым коэффициентом захвата электронов и связанных с повышенной концентрацией кислорода на границе слоев, а также с уменьшенной концентрацией оборванных связей кремния в глубине слоев с более упорядоченной структурой.
- Добавил в систему: Ормонт Наталия Николаевна