Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Instrumented wafer as a Langmuir multiprobe tool for lateral plasma homogeneity measurements in processing plasma reactors
статья
Авторы:
Miakonkikh A.
, Lisovsky S., Rudenko M.,
Rudenko K.
Сборник:
-
Том:
8700
Год издания:
2012
DOI:
10.1117/12.2017556
Добавил в систему:
Руденко Константин Васильевич