Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Pore sealing in low-k dielectrics by low-energy ions
тезисы доклада
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 1 апреля 2020 г.
Авторы:
Voronina E.N.
,
Lopaev D.V.
,
Mankelevich Yu A.
,
Rakhimova T.V.
,
Sycheva A.A.
Сборник:
Plasma Etch and Strip in Microthechnology (PESM 2019). Book of abstracts. May 20–21, 2019, Grenoble, France
Тезисы
Год издания:
2019
Место издания:
MINATEC Grenoble, France
Первая страница:
52
Последняя страница:
53
Добавил в систему:
Воронина Екатерина Николаевна