|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Анализ возможности независимого регулирования различных параметров плазмы ВЧ несамостоятельного разряда с дополнительной ионизацией электронным пучкомстатья
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 июля 2024 г.
- Авторы: Богданова М.А., Лопаев Д.В., Прошина О.В., Рахимова Т.В., Рахимов А.Т.
- Журнал: Вестник Российского фонда фундаментальных исследований
- Том: 118
- Номер: 2
- Год издания: 2023
- Издательство: РФФИ
- Местоположение издательства: М.
- Первая страница: 95
- Последняя страница: 104
- DOI: 10.22204/2410-4639-2023-118-02-95-104
- Аннотация: В данной статье представлены результаты исследования нового типа плазмы ВЧ несамостоятельного разряда (ВЧНР)низкого давления с дополнительной ионизацией пучками высокоэнергетичных электронов. С помощью комплексного экспериментально-теоретического подхода было показано отличие параметров такой плазмы (плотность плазмы,температура электронов, функция распределения электронов и ионов по энергиям) от случая обычной ВЧ-плазмы,а также от случая чисто пучковой несамостоятельной плазмы. Проведенное исследование подтвердило, что плазмаВЧНР с ионизацией электронным пучком может использоваться для получения более низкой температуры электронов, чем в классической ВЧ-плазме, и, соответственно, для получения ионов более низких энергий. Параметрами плазмы ВЧНР можно управлять: плотностью плазмы – варьируя ВЧ-мощность на частоте, используемой для генерации разряда; энергетическими спектрами электронов и ионов – варьируя соотношение вкладов ВЧ-мощности, мощности ВЧ-смещенияи мощности электронного пучка. Полученный результат является также перспективным для возможности прецизионной обработки поверхности плазмой с низкой энергией ионов (порядка нескольких электронвольт), используемой в технологиях атомного слоевого травления и осаждения в плазменных реакторах нового поколения.
- Добавил в систему: Лопаев Дмитрий Викторович